微電子產(chǎn)業(yè)研發(fā)、生產(chǎn)的對(duì)象為晶圓(Wafer),晶圓在無(wú)塵工廠(Fab)里被制造(Fabrication)出來(lái),再進(jìn)行封裝測(cè)試等環(huán)節(jié);這些生產(chǎn)過(guò)程對(duì)工廠空間環(huán)境要求相當(dāng)嚴(yán)格,環(huán)境溫度、濕度、風(fēng)速、空氣微塵含量、靜電、光照等都會(huì)影響晶圓的良率Yield);因此 潔凈室的分類方法眾多 潔凈室對(duì)室內(nèi)環(huán)境要求極高,需要對(duì)室內(nèi)流動(dòng)空氣懸浮粒子濃度進(jìn)行嚴(yán)格控制,在潔凈室的使用過(guò)程中應(yīng)減少對(duì)室內(nèi)空氣懸浮粒子的引入、產(chǎn)生及滯留,這需要對(duì)潔凈室進(jìn)行定期清潔、保養(yǎng)、檢測(cè);并對(duì)室內(nèi)其他有關(guān)參數(shù)如潔凈度、室溫、濕度、靜電、氣壓等按要求進(jìn)行控制;不論潔凈室外界環(huán)境如何變化,潔凈室內(nèi)均能維持恒定的室內(nèi)環(huán)境參數(shù)性能,以滿足科研、生產(chǎn)使用需求 。